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等離子清洗機因其高效的表面處理能力而廣受歡迎，在眾多行業(yè)領域內(nèi)發(fā)揮著關(guān)鍵作用。這種設備利用等離子體技術(shù)，能夠去除材料表面的有機污染物，改善粘接、涂裝和印刷工藝的...
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等離子去膠機是應用等離子技術(shù)進行表面處理的設備，具有高效、環(huán)保等特點，被廣泛應用于汽車制造、電子設備維修以及半導體制造等領域。在這種技術(shù)的幫助下，材料表面的清潔、改性或涂層去除等工序得以精準且高效地完成。1.工作原理：等離子去膠機主要通過產(chǎn)生等離子體，即電離狀態(tài)的氣體，其中帶電的粒子在電場的作用下高速運動，對目標材料表面進行轟擊。這種高速轟擊可以去除表面分子，實現(xiàn)清潔或表面改性的效果。在半導體制造過程中，等離子體技術(shù)被用于刻蝕工藝，其中的離子對被刻蝕的表面進行撞擊，形成損傷層...
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等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除，以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫(yī)學、封裝領域等；
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等，增強表面粘附性、浸潤性、相容性；
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，電離氣體原子通過電場加速時，會釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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